Espace pour les utilisateurs payants
Essayer gratuitement
Intel Corp. pages disponibles gratuitement cette semaine :
- Tableau des flux de trésorerie
- Analyse des ratios d’activité à long terme
- Ratio valeur d’entreprise/EBITDA (EV/EBITDA)
- Valeur actualisée des flux de trésorerie disponibles par rapport aux capitaux propres (FCFE)
- Sélection de données financières depuis 2005
- Rendement des capitaux propres (ROE) depuis 2005
- Ratio cours/résultat d’exploitation (P/OP) depuis 2005
- Ratio prix/chiffre d’affaires (P/S) depuis 2005
- Analyse de l’endettement
- Cumul des régularisations
Nous acceptons :
Flux de trésorerie disponibles pour l’entreprise (FCFF)
D’après les rapports : 10-K (Date du rapport : 2024-12-28), 10-K (Date du rapport : 2023-12-30), 10-K (Date du rapport : 2022-12-31), 10-K (Date du rapport : 2021-12-25), 10-K (Date du rapport : 2020-12-26).
1, 2 Voir les détails »
Composant | Description | L’entreprise |
---|---|---|
FCFF | Le flux de trésorerie disponible pour l’entreprise est le flux de trésorerie disponible pour les fournisseurs de capital de Intel Corp. après que toutes les dépenses d’exploitation ont été payées et que les investissements nécessaires en capital de roulement et en capital fixe ont été effectués. | FCFF de Intel Corp. diminué de 2022 à 2023 et de 2023 à 2024. |
Intérêts payés, nets d’impôt
D’après les rapports : 10-K (Date du rapport : 2024-12-28), 10-K (Date du rapport : 2023-12-30), 10-K (Date du rapport : 2022-12-31), 10-K (Date du rapport : 2021-12-25), 10-K (Date du rapport : 2020-12-26).
2 2024 calcul
Encaisse versée au cours de l’année pour les intérêts, déduction faite des intérêts capitalisés, de l’impôt = Encaisse versée au cours de l’exercice pour les intérêts, déduction faite des intérêts capitalisés × EITR
= × =
3 2024 calcul
Intérêts capitalisés, impôts = Intérêts capitalisés × EITR
= × =
Ratio valeur d’entreprise/FCFFcourant
Sélection de données financières (en millions de dollars américains) | |
Valeur d’entreprise (EV) | |
Flux de trésorerie disponibles pour l’entreprise (FCFF) | |
Ratio d’évaluation | |
EV/FCFF | |
Repères | |
EV/FCFFConcurrents1 | |
Advanced Micro Devices Inc. | |
Analog Devices Inc. | |
Applied Materials Inc. | |
Broadcom Inc. | |
KLA Corp. | |
Lam Research Corp. | |
Micron Technology Inc. | |
Monolithic Power Systems Inc. | |
NVIDIA Corp. | |
Qualcomm Inc. | |
Texas Instruments Inc. | |
EV/FCFFsecteur | |
Semi-conducteurs et équipements de semi-conducteurs | |
EV/FCFFindustrie | |
Technologie de l’information |
D’après le rapport : 10-K (Date du rapport : 2024-12-28).
1 Cliquez sur le nom du concurrent pour afficher les calculs.
Si l’EV/FCFF de l’entreprise est inférieur à l’EV/FCFF de l’indice de référence, l’entreprise est relativement sous-évaluée.
Sinon, si l’EV/FCFF de l’entreprise est supérieur à l’EV/FCFF de l’indice de référence, l’entreprise est relativement surévaluée.
Ratio valeur d’entreprise/FCFFhistorique
28 déc. 2024 | 30 déc. 2023 | 31 déc. 2022 | 25 déc. 2021 | 26 déc. 2020 | ||
---|---|---|---|---|---|---|
Sélection de données financières (en millions de dollars américains) | ||||||
Valeur d’entreprise (EV)1 | ||||||
Flux de trésorerie disponibles pour l’entreprise (FCFF)2 | ||||||
Ratio d’évaluation | ||||||
EV/FCFF3 | ||||||
Repères | ||||||
EV/FCFFConcurrents4 | ||||||
Advanced Micro Devices Inc. | ||||||
Analog Devices Inc. | ||||||
Applied Materials Inc. | ||||||
Broadcom Inc. | ||||||
KLA Corp. | ||||||
Lam Research Corp. | ||||||
Micron Technology Inc. | ||||||
Monolithic Power Systems Inc. | ||||||
NVIDIA Corp. | ||||||
Qualcomm Inc. | ||||||
Texas Instruments Inc. | ||||||
EV/FCFFsecteur | ||||||
Semi-conducteurs et équipements de semi-conducteurs | ||||||
EV/FCFFindustrie | ||||||
Technologie de l’information |
D’après les rapports : 10-K (Date du rapport : 2024-12-28), 10-K (Date du rapport : 2023-12-30), 10-K (Date du rapport : 2022-12-31), 10-K (Date du rapport : 2021-12-25), 10-K (Date du rapport : 2020-12-26).
3 2024 calcul
EV/FCFF = EV ÷ FCFF
= ÷ =
4 Cliquez sur le nom du concurrent pour afficher les calculs.